天然氧化
   東莞鋁氧化膜較薄，厚度約為0.5～4微米,且多孔，質軟，具有良好的吸附性，可作為有機涂層的底層，但其耐磨性和抗蝕性能均不如陽極氧化膜；

電化學氧化
   東莞鋁氧化膜厚度約為5～20微米（硬質陽極氧化膜厚度可達60～200微米），有較高硬度，良好的耐熱和絕緣性，抗蝕能力高于化學氧化膜，多孔，有很好的吸附能力。

化學氧化
   鋁及鋁合金的化學東莞鋁氧化處理設備簡單，操作方便，生產效率高，不消耗電能，適用范圍廣，不受零件大小和形狀的限制。
   鋁及鋁合金化學東莞鋁氧化的工藝按其溶液性質可分為堿性氧化法和酸性氧化法兩大類。

按膜層性質可分為:氧化物膜、磷酸鹽膜、鉻酸鹽膜、鉻酸－磷酸鹽膜。

   ①配方1得到的氧化膜較薄，韌性好，耐蝕性好，適用于氧化后需變形的鋁及鋁合金，也可用于鑄鋁件的表面防護，氧化后不需要鈍化或填充處理。

   ②配方2溶液pH值為1.5～2.2,得到的氧化膜較厚，約1～3微米,致密性及耐蝕性都較好，氧化后零件尺寸無變化，氧化膜顏色為無色至淺藍色，適用于各種鋁及鋁合金氧化處理。在配方2溶液中氧化處理后零件應立即用冷水清洗干凈，然后用重鉻酸鉀40～50g/L溶液填充處理（PH=4.5～6.5時用碳酸鈉調整），溫度90～95℃,時間5～10分鐘，清洗后在70℃烘干。

   ③配方3溶液中得到的氧化膜為無色透明，厚度約0.3～0.5微米，膜層導電性好，主要用于變形的鋁制電器零件。

   ④配方4適用于純鋁及防銹鋁及鑄鋁等合金。氧化膜很薄，導電性及耐蝕性好，硬度低，不耐磨，可以點焊或氬弧焊，但不能錫焊；主要用于要求有一定導電性能的鋁合金零件。

   ⑤配方5得到的氧化膜較薄，約0.5微米，導電性及耐蝕性好，孔隙少，可單獨作防護層用。